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半导体超纯水设备用水水质标准
| 作者：guanli 日期：2020/4/27 17:34:52 |
半导体超纯水设备水质标准半导体超纯水设备是用于清洗半导体生产部件的设备，需要符合特定的水质标准。以下是具体介绍。
水质标准：
出水水质应符合美国ASTM纯水质量标准、中国电子工业电子级水质技术标准（18mΩ）。厘米，15米Ω。厘米，10兆欧。厘米，2兆欧。厘米，0.5兆欧。中国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备制备工艺：
1.预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混床→精混床→纯水水箱→纯水泵→紫外线消毒器→抛光混床→精密过滤器→水点（≥18mΩ）。Cm）
2.预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线消毒器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→水点（≥18mΩ）。Cm）
3.预处理→一级反渗透→加药机（pH调节）→中间水箱→二级反渗透（正电荷反渗透膜）→纯水水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线消毒器→0.2或0.5μm精密过滤器→水点（≥17mΩ）。Cm）
4.预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水水箱→纯水泵→紫外线消毒器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15mΩ）。Cm）
5.预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混床→精混床→紫外线消毒器→精密过滤器→水点（≥15mΩ。Cm）
半导体超纯水设备的应用领域：
电解电容器生产用铝箔及工作部件的清洗。
电子管、显像管、阴极射线管生产配料用纯水。
纯水用于荧光屏生产、玻璃外壳清洗、沉淀、润湿、膜清洗和黑白显像管颈部清洗。
液晶显示器的屏幕应使用纯水清洗，并与纯水混合。纯水主要用于晶体管生产中硅片的清洗。
集成电路生产中的高纯水清洗硅片。
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。
半导体材料、晶体材料的生产、加工、清洗。品质较高的显像管，荧光粉生产。
汽车、家用电器表面抛光。
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